ASML没有料到，新技术出现，外媒：光刻机“反转”来了

光刻机堪称如今芯片生产环节当中必不可少的重要设备之一，尤其是EUV光刻机，对于先进芯片的生产制造更是有着重要的作用。此前SK海力士就因为无法在大陆工厂引进EUV光刻机，无奈之下只好选择将部分生产环节放在本土工厂当中生产。

作为如今光刻机领域的龙头企业，ASML可以说对于芯片产业的发展有着不小的影响。可是对于ASML来说，似乎日子也并没有那么好过，不仅有半导体设备出口管制的限制，还有新技术的出现。ASML没有料到，新技术出现，外媒：光刻机“反转”来了。

此前有一位业内人士表示：想要实现光刻机的弯道超车或许很难，可是让一家光刻机巨头“衰弱”却并没有那么困难。这一观点其实从光刻机产业的发展和变迁也能够得到证实，如今ASML就面临着“衰弱”的风险。

在1980年之前，美半导体设备厂商凭借着先发优势，掌握了不少先进光刻机设备，当时GCA等三家美企被誉为“光刻三雄”，拿下了全球市场上的绝大多数市场份额。可是从如今的情况来看，这三家美企在光刻机领域已经可以说是“无人问津”了。

在1980年到2010年期间，光刻机领域的龙头企业是日本的尼康和佳能，抓住了技术变迁和发展机遇的尼康、佳能也开始迅速发展，在1980年之后尼康就拿下了全球市场50%以上的市场份额。尼康和佳能也被称为“光刻机双雄”，可是如今尼康和佳能虽然那依然拥有不少市场份额，可是和ASML相比如今尼康和佳能虽然排名还是在前三，可是市场份额已经少了很多。

ASML在1984年才成立，在上世纪九十年代之后才有了一些较为先进的光刻机。之后也是抓住了浸没式DUV光刻机的技术发展，实现了“弯道超车”。

值得关注的是，之后英特尔牵头成立的EUV技术联盟拒绝了尼康等日企的加入，只有ASML可以使用EUV光刻机技术。这也让ASML在EUV光刻机领域保持了较长时间的优势，在前不久还推出了最新的NA EUV光刻机。

在3月6日的时候，英特尔开箱了NA EUV光刻机，这款光刻机虽然可以用于2nm甚至是1nm制程芯片的生产。可是基本上已经算是走到了尽头，ASML正在研发的Hyper-NA EUV光刻机虽然有望推进到0.7nm，可是成本很高。

就在最近，有科学家提出的BEUV技术，能够实现更短的波长，有业内人士预测：预计到2035年之后，EUV光刻机就有可能被BEUV光刻机取代。可是从目前的情况来看，ASML在BEUV光刻机的研发方面其实表现并不算出色。

这其实也意味着，ASML很有可能在新的一轮技术发展当中开始“衰弱”。不仅如此，佳能近期还推出了纳米压印技术，有望在2023年实现5nm制程的量产，并且在2026年实现2nm制程量产。

最关键的是，这种纳米压印技术的成本和使用成本仅有EUV光刻机的十分之一左右，有着不小的优势。

从目前的情况来看，ASML正在面临多种问题，不仅是EUV光刻机的出口受限，还有新技术的出现，想要维持如今的市场份额和影响力，估计是没有那么简单了。被AMSL寄予厚望的NA EUV光刻机也因为成本售价和产能等问题并没有获得太多的认可。

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